» » Метод термического испарения в вакууме

Метод термического испарения в вакууме

18 декабря 2014
Метод термического испарения в вакууме
Метод термического испарения в вакууме

Подобный метод будет заключаться в обеспечении испарения металла или сплава в специальной конструкции (вакууме) с использованием подложки. Качество пленки и её надежность всегда зависит от того, какое именно качество подложки. Так что предварительно следует тщательно выполнить очистку и полировку подложки.


Чтобы была возможность сделать напыление, подложка очень часто будет нагреваться до температуры 100-3000С. Именно такое термическое испарение является вполне достойным решением, чтобы обеспечивать эффективную и надежную работу.


Если подложка, прогретая достаточно, тогда можно существенно снижать давление в пленке, а сцепление в такой ситуации улучшается. Подложки традиционно делаются из разнообразных материалов. Выбирается она исходя из требований по работе.


Есть большое количество схем, которые позволяют создавать требуемые магнитные пленки после термической обработки с использованием вакуума. Предварительно металл или его сплав, из которого делают пленку, будут устанавливать на подложку, а в дальнейшем помещают в испаритель.


В данной ситуации он будет иметь простую форму лодочки, которая создается из металлов. Через такую конструкцию будет пропускаться ток. Ток нужен для того, чтобы исходный материал нагрелся до определенной температуры и начал плавиться.


Пыль, которая, получается, от разогретого материала, будет падать на поверхность лодочки, а в дальнейшем устанавливать на подложку. Именно так формируется небольшой и тонкий слой пленки или ещё можно говорить как вакуумный конденсат.


Когда предварительно на подложке будут устанавливаться отверстия, тогда пленка в итоге будет иметь круглую форму в соответствии с требуемыми масками. Именно с помощью маски можно придавать самые разнообразные формы.


 

Вакансии